鍍層膜厚儀

簡(jiǎn)要描述：

鍍層膜厚儀是用于專(zhuān)業(yè)測(cè)量金、鎳、銅等鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)儀器。其工作原理基于磁感應(yīng)或X射線熒光等原理，可精確測(cè)量探頭與鍍層間的距離，具有測(cè)量精確、操作簡(jiǎn)便等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于工業(yè)制造、建筑材料、航空航天等領(lǐng)域。

更新時(shí)間：2025-01-10

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詳細(xì)介紹

品牌	ISP/韓國(guó)	價(jià)格區(qū)間	10萬(wàn)-20萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,能源,電子/電池

鍍層膜厚儀產(chǎn)品圖片：

鍍層膜厚儀是使用在材料表面檢測(cè)膜層厚度和復(fù)合材料的厚度的儀器。它利用一種叫做“干涉測(cè)量”技術(shù)的原理進(jìn)行測(cè)量。當(dāng)光線照射在材料表面時(shí)，一部分光會(huì)反射回來(lái)，一部分會(huì)穿過(guò)膜層并被底部反射。反射光線之間的差距將導(dǎo)致干涉現(xiàn)象。如果我們知道涂層材料的折射率，我們就可以計(jì)算出膜層厚度的值，從而確定膜層是否符合要求。

配置及技術(shù)指標(biāo)：

1. X 射線管：高穩(wěn)定性 X 光光管，微焦點(diǎn) X 射線管、Mo (鉬) 靶鈹窗口，陽(yáng)極焦斑尺寸 75um，油絕緣，氣冷式，輻射安全電子管屏蔽。50kV，1mA。高壓和電流設(shè)定為應(yīng)用程序提供良好性能。

2. 探測(cè)器：SDD 探測(cè)器(可選Si-Pin)能量分辨率：125±5eV(Si-Pin:159±5eV)。

3. 濾光片/可選。

初級(jí)濾光片：Al濾光片，自動(dòng)切換。

7個(gè)準(zhǔn)直器：客戶(hù)可選準(zhǔn)直器尺寸或定制特殊尺寸準(zhǔn)直器。

使用特點(diǎn)：

1. 非接觸式測(cè)量，可以在不接觸目標(biāo)表面的情況下進(jìn)行測(cè)量，避免了對(duì)材料表面的污染或損傷。

2. 多種光學(xué)方法可以提供高精度和穩(wěn)定的結(jié)果，測(cè)量精度可以達(dá)到micro1級(jí)。

3. 適用范圍廣，可以用于測(cè)量非金屬材料、有機(jī)材料和涂層材料的厚度。

4. 操作相對(duì)簡(jiǎn)單，只需要進(jìn)行一些簡(jiǎn)單的校準(zhǔn)和設(shè)置就能完成測(cè)量工作。

5. 實(shí)時(shí)監(jiān)控：一些高級(jí)模型的鍍層膜厚可以實(shí)時(shí)地監(jiān)控涂層的厚度變化，以便在必要時(shí)進(jìn)行調(diào)整。

應(yīng)用：

1. 金屬制造業(yè)：金屬制品中的涂層和貼附層的厚度可通過(guò)鍍層膜厚進(jìn)行測(cè)量來(lái)保證其質(zhì)量滿(mǎn)足要求。

2. 電子科技：半導(dǎo)體器件、微電子器件、薄膜太陽(yáng)能電池等電子設(shè)備需要在生產(chǎn)過(guò)程中進(jìn)行涂層和膜層的測(cè)量以保證其質(zhì)量。

3. 耐用性測(cè)試：可用于檢測(cè)汽車(chē)漆層的耐久性、涂層的防腐蝕性能和其他工業(yè)涂層的性能。

4. 質(zhì)量控制：通過(guò)實(shí)時(shí)監(jiān)控涂層和膜層的厚度可以保證其質(zhì)量一直處于最佳狀態(tài)。

5. 環(huán)境監(jiān)測(cè)：可以用于測(cè)量和監(jiān)測(cè)大氣、水、土壤和生物組織等環(huán)境中的化學(xué)物質(zhì)的厚度。

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